Algfail(641 × 823 pikslit, faili suurus: 63 KB, MIME tüüp: image/jpeg)

Kirjeldus
English: A spinner is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The image shows a wafer of 6" (125 mm) diameter that has been mounted on the vacuum chuck and is ready for spinning. The user dispenses a drop of photoresist in the center of the wafer and the centrifugal force spreads the fluid into an even film, eliminating excess photoresist at the edge of the wafer in the process.
Note that the light in the room really is yellow.
Allikas Photo taken at HP Labs by Alison Chaiken.
Autor Alison Chaiken
Luba
(Faili edasikasutus)
Autoriõiguse omanikuna avaldan selle teose järgmiste litsentside all:
GNU head Luba on antud selle dokumendi kopeerimiseks, avaldamiseks ja/või muutmiseks GNU Vaba Dokumentatsiooni Litsentsi versiooni 1.2 või hilisema Vaba Tarkvara Fondi avaldatud versiooni tingimuste alusel; muutumatute osadeta, esikaane tekstideta ja tagakaane tekstideta. Sellest loast on lisatud koopia leheküljel pealkirjaga "GNU Free Documentation License".
w:et:Creative Commons
omistamine sarnaselt jagamine
See fail kuulub jurisdiktsiooniga sidumata Creative Commonsi litsentsi "Autorile viitamine + jagamine samadel tingimustel 3.0" alla.
Tohid:
  • jagada – teost kopeerida, levitada ja edastada
  • kohandada – valmistada muudetud teoseid
Järgmistel tingimustel:
  • omistamine – Pead materjali sobival viisil autorile omistama, tooma ära litsentsi lingi ja märkima ära, kas on tehtud muudatusi. Sobib, kui teed seda mõistlikul viisil, kuid seejuures ei tohi jääda muljet, et litsentsiandja tõstab esile sind või seda, et sina materjali kasutad.
  • sarnaselt jagamine – Kui töötled, kujundad ümber või arendad materjali edasi, siis pead oma töö levitamiseks kasutama sama litsentsi, mille all on algupärand, või ühilduvat litsentsi.
See litsentsimärgis lisati sellele failile GFDL-i litsentsimisuuenduse raames.
w:et:Creative Commons
omistamine sarnaselt jagamine
See fail kuulub Creative Commonsi üldise litsentsi "Autorile viitamine + jagamine samadel tingimustel" versioonide 2.5, 2.0 ja 1.0 alla.
Tohid:
  • jagada – teost kopeerida, levitada ja edastada
  • kohandada – valmistada muudetud teoseid
Järgmistel tingimustel:
  • omistamine – Pead materjali sobival viisil autorile omistama, tooma ära litsentsi lingi ja märkima ära, kas on tehtud muudatusi. Sobib, kui teed seda mõistlikul viisil, kuid seejuures ei tohi jääda muljet, et litsentsiandja tõstab esile sind või seda, et sina materjali kasutad.
  • sarnaselt jagamine – Kui töötled, kujundad ümber või arendad materjali edasi, siis pead oma töö levitamiseks kasutama sama litsentsi, mille all on algupärand, või ühilduvat litsentsi.
Sa võid valida endale sobiva litsentsi.

Pealdised

Lisa üherealine seletus sellest, mida fail esitab

Selles failis kujutatud üksused

kujutab

0,03787878787878787878 sekund

f-number inglise

2,6

8,2 millimeeter

ISO speed inglise

100

MIME type inglise

image/jpeg

Faili ajalugu

Klõpsa kuupäeva ja kellaaega, et näha sel ajahetkel kasutusel olnud failiversiooni.

Kuupäev/kellaaegPisipiltMõõtmedKasutajaKommentaar
viimane29. november 2014, kell 19:19Pisipilt versioonist seisuga 29. november 2014, kell 19:19641 × 823 (63 KB)SelakantColour correction and contrast enhancement.
3. veebruar 2006, kell 05:23Pisipilt versioonist seisuga 3. veebruar 2006, kell 05:23641 × 823 (62 KB)ChaikenA '''spinner''' is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The i

Seda faili kasutavad järgmised 2 lehekülge:

Globaalne failikasutus

Järgmised muud vikid kasutavad seda faili:

Metaandmed